Fabrication

Applied Spintronics Lab @ CUHK(SZ)

aspin@cuhk.edu.cn

Thin Film Fabrication

MSS

超高真空磁控溅射系统
Magnetron Sputtering System

设备用途：制备金属磁性薄膜
设备特点:配备6个直流电源和2个射频电源，集成8个2英寸磁控溅射靶源，真空优于5.0×10^-6Pa，均匀性优于±2.5%。

品牌:AJA International（美国）
型号:ATC Orion 8

case_study

激光脉冲沉积系统
Pulse Laser Deposition System

设备用途：制备绝缘体磁性薄膜
设备特点:配备盛方PLD20激光器，真空度优于5.0×10^-6Pa，可装6块1英寸靶材。

品牌:百举捷
型号:PLDCKJ-520

MSS

离子束刻蚀系统
Ion Milling System

设备用途：加工微米级器件
设备特点:配备80mm口径的考夫曼离子源，刻蚀均匀区域4英寸，离子束能量200 eV到500 eV可调。

品牌:沈阳麦诺科技
型号:MICROTEC20201128